磁控+多弧离子镀膜机
该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，，可以做到多复合膜层一次性完成，膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数，特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。
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产品特点:
该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶，设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点，同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点，适合镀各种复合膜层，，可以做到多复合膜层一次性完成，膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数，特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。
技术参数:
▲真空室箱体：主要规格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根据客户具体要求设计非标产品
▲夹具方式 ：采用公自转行星式齿轮结构，工件速度在1-15转/分钟可调。
▲控制气体方式：采用质量流量计控制，进气稳定，反映速度快。
▲靶:采用整体制造技术，严格缜密的磁场设计和磁场布局，溅射刻蚀均匀。
▲电源：配置有高频直流电源（20KW、40KW等规格）、直流脉冲电源（电压、占空比可调节），逆变电弧电源，并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。
▲抽气系统：采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵，根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。
▲抽真空参数：从大气抽至5*10￣3Pa≤15min 极限真空度8*10￣4Pa 控制系统
