产品中心
陶瓷镀膜机
该设备是针对市场上瓷砖、腰线、抛晶砖等的镀金、镀银加工,我们集中设备制造和镀膜加工的经验,特别针对陶瓷镀膜设备进行了改进和完善
连续卧式镀膜机
采用大型平面靶技术,可以在玻璃上面镀制单质金属膜、复合膜、电磁屏蔽膜、ITO膜,可以根据需要配置多个真空室,每个真空室根据需要配置不同的靶材,室与室之间采用独立的真空抽气系统,可以随意调节各个真空室的气体参数,镀制不同的膜层,可以满足工业化连续生产的需要
全自动电阻蒸发镀膜机
用电阻式蒸发原理,把被蒸发物质加热到一定温度,在高真空状态下,蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出,直接到达被镀材料表面成膜的方式
磁控+多弧离子镀膜机器
该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶,设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点,同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点
多弧离子镀膜机
利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术,是率先发展起来的真空镀膜方式,具有沉积速率高、结合牢固、设备运行稳定等优点,
光学镀膜机
采用电阻蒸发或电子枪蒸发方式,是镀制多层光学薄膜(如彩色膜、增透膜、反光膜、金属膜、导电膜等)的主要机器。广泛应用在相机镜头、手机镜片、光学片等各个领域。
中频磁控离子镀膜机
采用频率为数十千赫兹的中频电源,配备经过严格磁路设计的孪生靶(对靶),可以避免“打火”、“阳极消失”、“靶中毒”等现象,提高了离化率、溅射速率,显著提高沉积速度,适合做化合物薄膜(如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等)的沉积。中频磁控离子镀膜机在近几年得到了迅猛的发展,在钟表、眼镜、五金等装饰度领域得到广泛的应用。
磁控+多弧离子镀膜机
该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶,设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点,同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点,适合镀各种复合膜层,,可以做到多复合膜层一次性完成,膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数,特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。
电阻蒸发+磁控镀膜机
该机型是在电阻蒸发镀膜机的基础上,配备磁控圆柱和磁控平面靶。设备即可以镀铝、硬铬等金属膜层,也可以镀氟化镁等非金属膜。配备的磁控靶,可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等,可以精确的控制膜厚,是镀各种塑胶、陶瓷、玻璃、手机配件等材料的首选机器,一机多用是该机型的价值所在