电阻蒸发+磁控镀膜机

该机型是在电阻蒸发镀膜机的基础上,配备磁控圆柱和磁控平面靶。设备即可以镀铝、硬铬等金属膜层,也可以镀氟化镁等非金属膜。配备的磁控靶,可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等,可以精确的控制膜厚,是镀各种塑胶、陶瓷、玻璃、手机配件等材料的首选机器,一机多用是该机型的价值所在

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产品特点

该机型是在电阻蒸发镀膜机的基础上,配备磁控圆柱和磁控平面靶。设备即可以镀铝、硬铬等金属膜层,也可以镀氟化镁等非金属膜。配备的磁控靶,可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等,可以精确的控制膜厚,是镀各种塑胶、陶瓷、玻璃、手机配件等材料的首选机器,一机多用是该机型的价值所在。

技术参数:

真空室箱体:主要规格有1000*1200mm1200*1500mm1800*1950箱式结构、双开门,并可根据用户产品的要求定做非标准产品。

夹具方式 :采用公自转行星式齿轮结构,工件速度在15/分钟可调,挂具有6轴、8轴、10轴、12轴等各种规格,适合不同大小尺寸的装饰、工具镀膜。

控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反映速度快,可以配加自动压强控制。

:除电阻蒸发外,另配置圆柱、平面靶,靶材根据实际要求选择。

电源:配备直流电源,高压轰击电源,及蒸发大电流电源。

抽真空参数:从大气抽至5*10 ̄3Pa≤8min 极限真空度8*10 ̄4Pa

抽气系统:主要配备兰州扩散泵,罗次泵,旋片泵,按照真空室大小确定。

控制系统: 可以选用手动控制;计算机控制,触摸屏面板控制。

其他:配备电热加热系统,可以选配扩散泵自动油温控制装置。冷水机组等等