碳化硼靶材B4C靶材磁控溅射靶材
碳化硼靶材
科研实验专用碳化硼靶材B4C靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
碳化硼（B4C），别名黑钻石，坚硬黑色有光泽晶体，具有密度低、强度大、高温稳定性以及化学稳定性好的特点；硬度比工业金刚石低，但比碳化硅高；不受热氟化氢和硝酸的侵蚀，溶于熔化的碱中，不溶于水和酸，是已知最坚硬的三种材料之一（其他两种为金刚石、立方相氮化硼）；碳化硼可以吸收大量的中子而不会形成任何放射性同位素，因此它在核能发电场里它是很理想的中子吸收剂；碳化硼制造容易、成本低廉，因而使用更加广泛，在某些地方可以取代价格昂贵的金刚石、常见在磨削、研磨、钻孔等方面的应用。
产品参数
中文名碳化硼 分子式B4C
相对分子质量 55.26 沸点 大于3500℃
熔点 2350℃ 密度 2.52g/cm3
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
