微型台式真空镀膜机 磁控溅射仪 可调速旋转靶台使薄膜更均匀
KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小，功能齐全。配备有电压电流反馈，样口台旋转样高度可调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率蒸发功率，可对大部分金属进地均匀蒸发沉积
KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小，功能齐全。配备有电压电流反馈，样口台旋转样高度可调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率蒸发功率，可对大部分金属进地均匀蒸发沉积。真空腔体为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
主要特点/优势：
★ 玻璃钟罩真空腔室，最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；
★ 复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥140L/S）；
★ 两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；
★ 专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；
★ 可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；
★ 衬底可选择加热或水冷，源基距≥40-105mm；
★ 可调速旋转靶台使薄膜更均匀
★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；
★ 7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果
小型离子溅射仪 郑州 科探KT-Z1650PVD在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。
