SCW10FR超纯水膜元件具有高脱盐率，高抗污染，对硼，硅，锗等元素的高去除率，从而减小后续系统处理压力，提高后续系统的使用周期和使用效果。膜元件的化学清洗周期长，出水水质稳定，特别适合微电子行业超纯水EDI系统前处理。

膜元件参数

测试条件：2000ppm NaCl溶液，操作压力225psi，温度25℃，pH7，15%回收率

注：24 小时运行后测平均脱盐率。单个膜元件流量可能波动范围+25%/-25%。

操作条件

产品型号：SCW10FR

操作压力上限：600psi

典型操作压力：225psi

单只膜压降：lt;12psi

回收率：15%

操作温度上限：50℃

清洗温度上限：50℃

连续工作PH范围：4.0-11.0

清洗PH范围：2.0-11.5

允许余氯含量上限：500ppm-h