ITO导电玻璃的高温喷涂和等离子体喷涂工艺：高温喷涂和等离子体喷涂工艺：这种技术是将粉末状金属或非金属、无机材料加热至熔化或未熔化状态，并进一步加温使其雾化，形成高温高速焰流喷向需喷涂的玻璃基体。采用这种方式可以先在基体上制备YBaGUOx等涂层，在经过热处理可成为超导性材料。

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　　长度、宽度、厚度及允差（±0.20）垂直度（≤0.10%）翘曲度（厚度0.7mm以上≤0.10%，厚度0.55mm以下≤0.15%）微观波纹度倒边C倒边（0.05mm≤宽度≤0.40mm）R倒边（0.20mm≤宽度≤1.00mm，曲率半径≤50mm）倒角（浮法方向2.0mmX5.0mm；其余1.5mmx1.5mm）SiO2阻挡层厚度（350埃±50埃，550nm透过率≥90%）ITO层光学、电学、蚀刻性能（蚀刻液：600C 37%HCL:H2O:67%HNO3=50:50:3）